Технология
Как и при атмосферном плазменном напылении, частицы напыляемого порошка впрыскиваются в плазменную струю, плавятся и ускоряются в направлении детали. При напылении в вакууме плазменная струя создается в атмосфере низкого давления. В начале процесса атмосфера внутри технологической камеры откачивается до уровня давления ниже 0,1 мбар, а затем заполняется аргоном. Это гарантирует, что химически активные газы (кислород и водород) не окажут негативного влияния на последующий процесс нанесения покрытия. Благодаря атмосфере частицы расплавленного металла не окисляются, таким образом, на поверхности изделия создаются покрытия высокой чистоты.
